製品紹介：

の名前をあげる 秤量：シム現像機

タイプ 番号：SC200-DE

原産地：

べきである 使用：SC200-DEシム現像機は、精密なシム処理にも半導体現像や洗浄にも使用できるメサ装置で、100万ドル相当の設備（track)の上にこそ、安定性と均一性を達成することができます。

製品の概要：

　　SC200-DEシム現像機は、精密なシム処理にも半導体現像や洗浄にも使用できるメサ装置で、100万ドル相当の設備（track)の上にこそ、安定性と均一性を達成することができます。
ステンレス製の外殻はプラスチックや塗装金属よりも耐久性と美しさがあります。工業レベル400ワットサーボモータシステム、およびtrack設備は同じ設計とプログラムであり、技術をより実用的な応用意義を持たせる。クラス最高の製品50000RPM/Sの回転加速度を測定し、シムと現像の安定性と極めて高い再現性を確保した。

パフォーマンスパラメータ：

n ホストシャーシにステンレス鋼材料を採用（化学腐食に強く清潔でありやすい）

n スピンコーター：最大保存可能100グループ・プログラム、グループごと100ステップ、各ステップを正確に0.1秒

n 回転速度：0-5,000rpm（より高速オプション）

n スピンコーティング加速度：0-10,000rpm/sec（空荷重）

n モータスピンコーティング回転数安定性誤差< ±1rpm

n 回転数調整精度<1rpm、繰り返し< 1rpm

n プロセス時間設定：0-3,000 sec/step、時間設定精度：0.1sec

n サポートwafer寸法すんぽう1cm-300mm（12“円晶）

n 標準配置2ウェイスプレーシステム（現像液と脱イオン水）

製品特徴：

l ホストSC200-SEホモジナイザをアップグレードし、耐食性高分子材料のスパッタ防止カバーを追加

l 全プログラム編集機能、より便利なインテリジェント化操作、より良い現像/パージ効果

l 現像用に最大独立した4ウェイジェットを実現/洗浄作業、または窒素ガス乾燥を行う

l コントローラはプログラムを実現して液体を自動的に制御したり、手動で操作したりすることができ、使用がより便利になる

l 現像システムはスプレー式、カラム流式の多種選択が可能で、要求に応じて配置する

l お客様がカスタマイズした現像システム構成と治具設計を提供する

l 高信頼性と再現性、高回転精度、高回転数オプション

l バリ取りゴムとバックゴム洗浄機能を追加可能

詳細な製品情報については、お問い合わせまたはお問い合わせください。ANALYSIS（アンセズ）スタッフ。

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