温度範囲：室温～400℃

加熱定盤：φ200 mm

平面放射角：-40°≦α≦40°、放射線垂下面放射角：-2°≦β≦70°

昇温速度<5℃/min

主温度測定：熱電対、赤外線温度測定（補助）

温度表示/制御精度：0.1℃/0.5℃

実験環境：キャビティ密閉、空気充填可能

冷却方式：循環水冷

温度制御：レギュレータ精度0.2級、PID人工知能制御、50段プログラム

温度制御ソフトウェア：中英インタフェース切り替え、リアルタイム操作、多点温度補正、温度速度設定可能、温度制御区間など、プロセス曲線表示と記録

運動制御器：一軸ホットテーブルが水平移動し、一軸ホットテーブルが回転し、一軸赤外測温移動する。手動またはソフトウェア操作。