光酸素触媒排ガス処理装置が主に利用する高オゾンUV紫外線ビームが排ガスを照射し、アンモニア、アミン、硫化水素、メチルチオール、メチルチオエーテル、酢酸ブチル、酢酸エチル、ジメチルジ硫黄、二硫化炭素及びスチレン、硫化物H 2 S、VOC類、ベンゼン、トルエン、キシレンの分子鎖構造を分解し、有機又は無機高分子悪臭化合物の分子鎖を紫外線ビームの照射下で低分子化合物、例えばCO 2及びH 2 Oなどに分解転換させる。高オゾンUV紫外線ビームを用いて空気中の酸素分子及び水分子を分解することにより遊離酸素（活性酸素）とOHラジカルが発生し、遊離酸素と持ち運ぶ正負電子がアンバランスであるため酸素分子と結合する必要があり、さらにオゾンが発生する。UV+O 2---O _+O*（活性酸素）+O 2---O 3（オゾン）は、オゾンが有機物に対して極めて強い酸化作用を持ち、工業排ガス及びその他の刺激性異臭に対して効果があることが知られている。

また、触媒を添加することにより、異なる排ガス成分に応じて27種類以上の対応する不活性触媒を配置し、触媒はハニカム状金属メッシュを担体として用い、光源と接触し、不活性触媒は338ナノ光源以下で触媒反応を起こし、光源効果を10-30倍に拡大し、排ガスと十分に反応させ、排ガスと光源との接触時間を短縮し、排ガス浄化効率を高める。

触媒は植物光合成に類似した排ガス浄化効果もある。特定の波長光線照射、ナノ光触媒、電子正孔対を生成し、光触媒と周囲のH 2 O分子O 2分子を作用させ、結合して水酸化ラジカルOHを生成し、水酸化ラジカル層を通じて空気中の各種有害成分をロックし、有害分子構造、成長とウイルスの活性能力を分解し、殺菌、空気浄化、脱臭、汚染除去の目的を達成する。工業排ガスは排風設備を用いて本浄化設備に入力された後、浄化設備はUV紫外線ビーム及びオゾンを用いて工業排ガスに対して協同分解酸化反応を行い、工業排ガスを低分子化合物、水と二酸化炭素に分解、転化させ、さらに拝観配管を通じて室外に排出する。UVビームを利用して工業排ガス中の分子結合を分解し、核酸（DNA）を破壊し、オゾンを通じて酸化反応を行い、浄化と殺滅の目的を達成する。空気浄化効率の観点から、我々はCバンド紫外線とオゾン結合高コロナ電流装置を選択し、パルスコロナ吸着技術の結合原理を用いて有害ガスを除去し、その中のCバンド紫外線は主に硫化水素、アンモニア、ベンゼン、トルエン、キシレン、ホルムアルデヒド、酢酸エチル、エタン、アセトン、ウレタン、樹脂などの有機ガスを除去し、有機物を無機物に転換させるために用いた。

UV光分解浄化装置は初期濾過ユニット、Cバンド紫外線装置、触媒装置、分解収集、オゾン発生器及び濾過ユニットなどの設備と部品から構成される。

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