グラフェンの半導体アナログ：グラフェン酸化物は、修正反応ハマー技術を使用して当社のR＆D施設で合成されました。成長技術は,光学的に活性材料を得るために欠陥密度を最小限に抑え,平均粒子サイズ (フレークサイズ) を増加することを強調しています.他の多くのグラフェン酸化物とは異なり、この製品は光学的に活性であり、2D半導体研究のための準備ができています。各成長バッチは、ストイコメトリを決定するためにオーガー電子およびX線光電子スペクトロスコピーで特徴付けられています。光学特性テストのためのラマン、PL分光学および光学吸収;原子の平面性のAFM測定製品は~2.5 eVでPL,2.2,2.0 eVでサブバンド,1.7 eVで広い欠陥線を表示します.ラマン分光鏡測定により,D,G,2D,G+Dピークが得られます.サンプルは完全にサ酸素でサササンプルがサササンプルは完全にササササンプルがサササンプルは酸素でサササンプルが完全にササンプルにササンプルがサンプルに完全にサンサンプルされ,素材の光学特性は簡単な熱処理によって調整できます.この製品は,2-10分以内に様々な基板にモノレイヤーを作成するのに理想的です.